نقش عمليات آنيل بر ويژگي‌هاي فيلم‌هاي سيليكوني ايجاد شده به‌روش EB-PVD

The Role of Annealing on Properties of Silicon Films Deposited By EB-PVD

اين پژوهش، به بررسي ويژگي‌هاي ساختاري و اپتيكي فيلم‌هاي چنددانه سيليكون حاصل از اعمال تكنولوژي تبخير پرتو الكتروني فاز بخار (EB-PVD) روي ويفر سيليكوني، اختصاص دارد. اين فيلم‌ها ابتدا آمورف بوده و طي آنيل به يك فاز جامد بلوري گذار كردند. آنيل در كوره تيوبي تحت اتمسفر گاز خنثي در دماهاي مختلف انجام شد. ريزساختار فيلم‌ها براي درك ارتباط بين تركيب بلوري / آمورف، اندازه دانه و مشخصات فيلم‌ها، مورد بررسي قرار گرفت. نتايج نشان‌دهنده كاهش زبري با افزايش دماي آنيل و افزايش تراكم ساختاري است. همچنين، نتايج حاصل از طيف ميكرو رامان نشان‌دهنده تشكيل و افزايش ميزان نانوبلور‌هاي سيليكون در شرايط آنيل و همچنين با افزايش ضخامت پوشش بر اثر عيوب ساختاري بود.

The structural and optical properties of polycrystalline silicon films obtained on a silicon wafer by electron beam physical vapor deposition (EBPVD), were studied in this paper. These films were initially amorphous and changed to a crystalline solid phase during annealing. Annealing was performed in an inert gas atmosphere tube furnace at different temperatures. Micro-structure of the films was analyzed to know the relationship between the crystalline / amorphous composition, grain size and characteristics of the films. The results showed a decrease in roughness with increasing annealing temperature and structural density. Moreover, results of Micro-Raman spectrum showed formation and increase of silicon nanocrystals in the annealed condition when the thickness of the coating increased due to structural defects