عنوان مقاله :
بررسي سينتيك رشد لايه نازك كربن آمورف انباشت شده به روش كندوپاش پرتو يوني با استفاده از مدل آورامي
عنوان به زبان ديگر :
Growth kinetic study of amorphous carbon thin film deposited by Ion Beam Sputtering deposition (IBSD) method using Avrami's model
پديد آورندگان :
محقق پور، الهام پژوهشگاه علوم و فنون هسته اي تهران - پژوهشكده كاربرد پرتوها , مجتهدزاده لاريجاني، مجيد پژوهشگاه علوم و فنون هسته اي تهران - پژوهشكده فيزيك و شتابگرها , رجبي، مرجان سازمان پژوهشهاي علمي و صنعتي ايران تهران - پژوهشكده مواد پيشرفته و انرژي هاي نو , غلامي پور، رضا سازمان پژوهشهاي علمي و صنعتي ايران تهران - پژوهشكده مواد پيشرفته و انرژي هاي نو , ملك، مجيد پژوهشگاه علوم و فنون هسته اي تهران - پژوهشكده فيزيك و شتابگرها
كليدواژه :
لايه نازك , كربن آمورف , سينتيك رشد , مدل رشد آورامي , كندوپاش پرتو يوني
چكيده فارسي :
سينتيك رشد لايه نازك كربن آمورف طي فرآيند انباشت در رابطه با مورفولوژي سطح و تحولات ساختاري لايه ها بررسي شد. لايه نازك كربن آمورف با استفاده از روش كندوپاش پرتو يوني بر سطح شيشه انباشت شد. بر اساس مدل آورامي، رشد لايه نازك كربن آمورف در ضخامت هاي بالاتر از nm 56 ( بعد از s 900 انباشت ) به صورت 2 بعدي انجام مي شود و معادله پيشنهادي جهت بررسي فرآيند رشد در تحقيق حاضر به صورت V=1-exp(-2×〖10〗^(-7) t^2 ) مي باشد. تغييرات نرخ ضخامت مانند مدل پيشنهادي آورامي از يك نمودار S شكل در بازه زماني s300 تا s 4500 تبعيت ميكند. به اين صورت كه سرعت افزايش ضخامت در مراحل اوليه و انتهاي فرآيند لايه نشاني كم است، در حالي كه در ميانه مسير زياد مي باشد. بررسي مورفولوژي سطح لايه ها نشاندهنده ارتباط زبري سطح با تحولات ساختاري لايه ها تحت تاثير افزايش ضخامت مي باشد. بر اساس نتايج طيف رامان، حداكثر جابجايي مكان پيك G در نمونه انباشت شده با ضخامت nm 360 همراه با كاهش نرخ رشد لايه ايجاد مي شود. نسبت ID/IG، اندازه خوشه هاي گرافيتي با پيوند sp2 (La) و زبري لايه مذكور به ترتيب برابر با 1/2 و nm 1/48 و nm 20/39±4/8 مي باشد.
چكيده لاتين :
The growth kinetic of amorphous carbon (a-C) thin films was investigated in the relation to the surface morphology and structural transformations. The a-C thin films were deposited by ion beam sputtering technique on the glass substrate. According to Avrami's model, the growth at the thickness above 56 nm (after 900 s deposition) is two-dimensional and the proposed equation for investigating about the growth process of amorphous carbon thin film in the present study is as follows: V=1-exp(-2×〖10〗^(-7) t^2 ). Transformations of the thickness is similar to proposed Avrami's model follow a characteristic s-shaped, or sigmoidal, profile during deposition time from 300s to 4500s, where the transformation rates are low at the beginning and the end of the transformation but rapid in between. Surface roughness and structural transformation depend on the film thickness. Raman spectra showed the maximum displacement in G peak position created in the film thickness equal 360 nm with the reduction of the growth rate. The ID/IG ratio, the size of graphite crystallites with sp2 bonds (La) and the roughness of this layer is equal to 1.2, 1.48 nm and 20.39±4.8 nm, respectively.
عنوان نشريه :
مواد پيشرفته و پوشش هاي نوين