عنوان مقاله :
مروري بر آلاينده هاي آنيوني، كاتيوني و آلاينده هاي اشتراكي در دي اكسيد تيتانيوم (آناتاز) و تأثير آن بر گاف نواري
عنوان به زبان ديگر :
A review of anionic, cationic and co-dopants in titanium dioxide (anatase) and its effect on band gap
پديد آورندگان :
سپهدار، محمد حسين دانشگاه تبريز - دانشكده مكانيك - گروه مهندسي مواد , خامنه اصل، شاهين دانشگاه تبريز - دانشكده مكانيك - گروه مهندسي مواد , كريم زاده، صفورا دانشگاه تبريز - دانشكده مكانيك - گروه مهندسي مواد
كليدواژه :
آناتاز , نظريه تابع چگالي , آلايش , گاف نواري , نوار رسانش , نوار ظرفيت
چكيده فارسي :
دي اكسيد تيتانيوم (TiO2) يك ماده نيمه هادي است كه خواص نوري، الكترونيكي و فتوكاتاليستي بسيار عالي در كاربردهاي مختلفي ايفا كرده است. اما گاف نواري پهن آناتاز ( eV3/2) باعث كاهش خواص نوري و الكترونيكي آن تحت نور مرئي شده است. به همين دليل اين گاف نياز به باريك سازي دارد كه يكي از اين روش ها آلاييدگي توسط عناصر مختلف است. هدف از اين تحقيق بررسي تاثير انواع آلاينده هاي كاتيوني، آنيوني و آلايش مشترك بر گاف نواري و خواص نوري آناتاز است. آلاييدگي از نوع جانشين در محل اتم هاي اكسيژن (آلاييدگي آنيوني) نشان داده كه اضافه كردن عنصر كربن به ساختار علاوه بر كاهش گاف نواري منجر به ايجاد ترازهاي مياني زير سطح فرمي ميشود و حضور اين ترازها در بهبود جذب نور در ناحيه مرئي موثر عمل ميكند. در مقابل افزودن اتم گوگرد به جاي اكسيژن منجر به اختلاط حالت هاي O 2p و S 3p شده و با افزودن غلظت آلاينده گاف نواري به تدريج سير نزولي دارد. نكته حائز اهميت درباره غلظت آلاينده نيتروژن كه از مهم ترين آلاينده هاي آنيوني است اين بوده كه در غلظت هاي بيشتر از 1/4% منجر به ايجاد ترازهاي مياني در گاف ممنوعه در نواحي نزديك به سطح فرمي شده و افزايش بازتركيب[1] حامل هاي بار را سبب ميشود. در آلايش هاي كاتيوني جايگزيني آلاينده در محل اتم تيتانيوم انجام مي شود. آلايش عناصر واسطه باعث ايجاد ترازهاي ناخالصي نيمه پر در منطقه ممنوعه شده و هم زمان گاف نواري را نيز كاهش داده است. علاوه بر اين آلاينده آهن در حضور تهي جاي اكسيژن منجر به كاهش گاف به مقدار eV1/49 شده است كه در مقايسه با ساير آلاينده ها بيشترين تأثير را دارد. آلاييدگي مشترك در آناتاز با هدف بهبود گاف نواري و كاهش بازتركيب حاملهاي بار مورد توجه بوده و اين مهم منجر به افزوده شدن ترازهاي ناخالصي در بالاي نوار ظرفيت و پايين نوار رسانش مي شود و در برخي كاربردها نظير فرآيندهاي فتوكاتاليستي مي تواند عملكرد بهينه اي ارائه كند.
چكيده لاتين :
Titanium dioxide (TiO2) is a semiconductor material that has excellent optical, electronic and photocatalytic properties in various applications. But the wide band gap of anatase (eV3.2) has reduced its optical and electronic properties under visible light. For this reason, this gap needs to be narrowed, and one of these methods is contamination by various elements. The aim of this study was to investigate the effect of various cationic, anionic and common contaminants on the band gap and optical properties of anatase. Alternative type contamination at the site of oxygen atoms (anionic contamination) has shown that the addition of carbon to the structure in addition to reducing the band gap leads to the formation of intermediate levels below the Fermi surface and the presence of these levels in improving light absorption in the visible area he does. In contrast, the addition of sulfur atoms instead of oxygen leads to the mixing of O 2p and S 3p states, and with the addition of contaminant concentrations, the band gap gradually decreases. The important point about the concentration of nitrogen pollutants, which is one of the most important anionic pollutants, is that at concentrations higher than 1.4%, it leads to the creation of intermediate levels in the forbidden gap in areas close to the Fermi surface and increases the recombination of charge carriers. Be. In cationic contaminants, the contaminant is replaced at the site of the titanium atom. Contamination of intermediate elements has created semi-solid impurity levels in the restricted area and at the same time has reduced the band gap. In addition, iron pollutants in the presence of oxygen depletion have reduced the gap to eV1.94, which is the most effective compared to other pollutants. Common contamination in anatase is considered to improve the band gap and reduce the recombination of charge carriers, and this leads to the addition of impurity levels above the capacity strip and below the conduction band, and in some applications such as photocatalytic processes can provide optimal performance.
عنوان نشريه :
سراميك ايران