مطالعه مكانيزم احياي پوشش چندلايه مس/نيكل-فسفر توسط روش ولتامتري چرخه‌اي

در اين پژوهش مكانيزم رسوب‌دهي الكتروشيميايي پوشش چندلايه مس/نيكل-فسفر از روش تك-حمام با استفاده از روش‌هاي ولتامتري چرخه‌اي و منحني‌هاي توزيع گونه‌هاي پايدار در محلول بر حسب pH مورد بررسي قرار گرفت. در اين راستا اثر تك‌تك اجزاي حمام بر نوع گونه‌ي غالب در حمام و رفتار آن گونه‌ي غالب در رسوب‌دهي مورد مطالعه قرار گرفت. بسته به نوع گونه‌ي غالب در حمام، در ولتامتري‌هاي چرخه‌اي پيك‌هاي متفاوتي با پتانسيل و چگالي جريان خاصي مشاهده شد. پيك‌هاي ظاهر شده در ولتاموگرام‌ها نشان‌دهنده‌ي مكانيزم نفوذ-كنترل فرايند احياي كاتيون‌ها از محلول‌هاي مورد استفاده بود. با وجود اينكه كمپلكس‌كننده سيترات اثر ممانعت‌كننده بر احياي مس داشت اما جريان احياي نيكل را افزايش داد. از طرفي با وجود اينكه حمام سيتراتي مس-نيكل اغلب براي رسوب‌دهي آلياژي مورد استفاده قرار مي‌گيرد اما ظاهر شدن پيك‌هاي مجزا در منحني‌هاي ولتامتري نشان داد كه تركيب و pH حمام نهايي براي رسوب‌دهي چندلايه‌ها كاملا مناسب بوده به ‌طوري كه مي‌توان با انتخاب درست پتانسيل احيا، رسوبات غني از نيكل و غني از مس تهيه نمود. محدوده‌ي پتانسيل پيك مس براي لايه غني از اين عنصر 0.1 - تا 0.4 - V vs.SCE و محدوده‌ي پتانسيل نيكل براي لايه غني از آن پتانسيل‌هاي منفي‌تر از 0.9- V vs. SCE بدست آمد.