تاثير سيليكون و نانودي اكسيد سيليكون بر فاكتورهاي رشدي، مقداراسموليت ها و محتواي يوني گياه زعفران(Crocus Sativus L.) تحت تنش شوري

هدف از اين مطالعه بررسي اثر تنش شوري بر گياه زعفران و نقش محلول پاشي سيليكون و نانو دي اكسيد سيليكون در كاهش اثر شوري بود در اين راستا گياهان زعفران به مدت ۱ ماه در وضعيت گلخانه اي و به روش هيدروپونيك كشت شدند و تيمار شوري در سه سطح (۰، ۷۵ و ۱۵۰ ميلي مولار كلريد سديم بعد از مرحله ۴ برگي گياهان) ۱ ماهه) به مدت سه ماه به گياهان زعفران اعمال شد سيليكون و نانو ذرات دي اكسيد سيليكون نيز در دو سطح ۰/۵ و ۱ ميلي مولار به صورت افشانه بر برگ گياه زعفران اعمال گرديد بعد از سه ماه اعمال تيمارها گياهان برداشت گرديده و فاكتورهاي رشدي و بيوشيمايي مورد بررسي قرار K+/Na+ گرفت. نتايج نشان داد كه شوري طول و وزن خشك اندام هوايي و زيرزميني مقدار پتاسيم (۲۶/۳۶ تا ۴۵/۸۴)، نسبت ۴/۶۷ تا ۹/۵۲ برابر) و (RWC (۵/۷۵) را كاهش داد علاوه بر اين شوري مرگ سلولي (۱۴۲) تا (۱۶۷. مقدار پرولين (۱۱۹/۷۴ تا ۱۳۱/۴۷) و گلايسين بتايين (۵۴/۱۸ تا ۶۵/۷۰، محتواي يونهاي سديم (۶/۵۳ تا ۸/۷۸ برابر) و كلر (۱/۹۳ تا ۴/۹۲ برابر) را در گياهان تحت تيمار افزايش داد اعمال سيليكون و نانو دي اكسيد سيليكون موجب بهبود فاكتورهاي رشدي، مقدار پتاسيم نسبت K Na و RWC شد. نتايج همچنين نشان داد كه اعمال سيليكون و نانو سيليكون موجب كاهش اسموليتهاي سازگار و يونهاي سديم و كلر شد ميتوان نتيجه گرفت كه سيليكون و نانو دي اكسيد سيليكون به ويژه نانو ذره دي اكسيد سيليكون در غلظت ۰/۵ ميلي ،مولار توانايي كاهش سميت حاصل از تنش شوري را در زعفران دارند و ميتوانند در افزايش مقاومت گياهان زعفران در برابر تنش شوري نقش مهمي داشته باشند.