بررسي پارامترهاي موثر بر پوشش‌دهي نانوذرات SnO2 به روش الكتروفورز در ميدان الكتريكي متناوب

روش الكتروفورز يكي از روش‌هاي ساده و ارزان براي پوشش‌دهي مواد مختلف بر روي سطوح رساناي الكتريكي با استفاده از ميدان الكتريكي مستقيم (DC) است. در اين مقاله،‌ تأثير پارامترهاي مختلف لايه نشاني در روش الكتروفورز ميدان متناوب (AC) از جمله زمان،‌ ولتاژ (شدت ميدان الكتريكي)،‌ بسامد و محيط مايع برروي جرم نشست و ظاهر كيفي پوشش مورد بررسي قرار گرفته است. به اين منظور از نانو ذرات اكسيد قلع SnO2 در محيط استن خالص استفاده گرديد. به منظور بررسي ظاهر سطح نشست، ‌از ميكروسكوپ نوري استريو استفاده شد. پوشش‌دهي برروي دو الكترود تخت موازي از جنس طلا با فاصله حدود 500 ميكرومتر انجام گرفت. اندازه‌گيري‌ها نشان دادند كه تغييرات جرم نشست با زمان و شدت ميدان با روابط تئوري مربوط به (DC) الكتروفورز مطابقت دارند. جرم نشست با بسامد ميدان اعمالي رابطه عكس دارد و الگوي نشست در هر بسامد مختص به آن بسامد است يعني با افزايش زمان لايه نشاني، ‌اين الگو تغيير نمي‌كند. جرم نشست در محيط استن خالص در مقايسه با آب مقطر و اتانول خالص بيشتر بود. بنابراين روش AC الكتروفورز را مي‌توان به عنوان روشي براي پوشش‌دهي سطوح رسانا مورد استفاده قرار داد.