تاثير انرژي و ابعاد ميدان در تعيين چشمه مجازي الكترون شتابدهنده خطي دستگاه واريان 2100CD

The Effect of Energy and Field Size on Determination of Virtual Source of the Linear Accelerator Varian 2100 CD

زمينه و هدف: در محاسبات دوزيمتري، پرتوهاي پهن و واگرا شونده الكتروني به صورت پرتوهايي كه از يك چشمه مجازي به وجود مي آيند، در نظر گرفته مي شوند، تا بتوان قانون عكس مجذور را براي پرتوهاي الكتروني نيز همانند فوتون ها به كار برند. بنابراين در تحقيق حاضر به كمك دزيمتري ميدان هاي درماني الكترون در انرژي هاي مختلف جايگاه چشمه مجازي اين دستگاه در ابعاد درماني و انرژي هاي مختلف تعيين شده است تا بتوان همانند فوتون، درمان هاي الكترون را نيز انجام داد. روش بررسي: بـا اسـتفاده از تـيوري پـراكندگي الاسـتيك و هندسه سيستم و همچنين دوزيمتري پـرتـوهـا مـوقعـيت چشمه مجازي(svir) براي ميدان هاي مختلف و در انرژي هاي مختلف دستگاه شتاب دهنده خطيVarian 2100 CD مشخص گرديد. يافته ها: بـه كـمك چـمبر بـا صـفحات مـوازيPPC40 و فانتوم50 ×50×50 سانتيمتر مكعب و نرم افزار Omini-pro تمام پروفايل هاي دوز عمقي براي انرژي هاي 6، 9، 12 و 15 مگاالكترون ولت و اپليكاتورهاي 6×6 ، 10×10 ، 15×15،20×20 و 25× 25 سانتيمتر مربع رسم گرديد و با تعيين سطح ميدان در عمق ماگزيمم دوز روي پروفايل مربوطه كانون مجازي (Svir) براي هر اپليكاتور در انرژي هاي مختلف بدست آمد. نتايج نشان مي دهد كه مقدار Svir تابع انرژي و اندازه ميدان مي باشد. علاوه بر اين، مقادير حاصل در ميدان هاي كوچك به ويژه در انرژي هاي پايين تر دقيقاً از قانون عكس مجذور فاصله پيروي نمي كند. نتيجه گيري: فاصله كانون مجازي(Svir) وابسته به انرژي و ميدان مي باشد و هرچه ميدان بزرگتر و انرژي بيشتر باشد اين فاصله نيز بزرگتر خواهد بود. م ع پ 1390؛‌10(3): 287-281

Background and Objective: In dosimetric calculation, it is desirable to represent the actual electron beam as originating from a virtual point source in vacuum so that the inverse square law can be applied. Therefore in this research with dosimetry of different treatment fields for different energy of electron beams the position of virtual source for electron beams is determined and one can use the inverse square rule for this electrons as the photons. Materials and Methods: In this work, the source position of electron beams (s vir) from a Varian clinac 2100 CD for different field sizes at different energies was determined by use of elastic scattering theory and dosimetry data. Results: With a parallel plate chamber PPC40 in a 50x50x50cm3, phantom and Omini-pro accept software the depth dose profiles of 6x6, 10x10, 15x15, 20x20 and 25x25 cm2 applicators in different energies (6,9,12 and 15 Mev) for treatment electron beams determined. From the dose profile of maximum depth and multiple scattering rules of electrons from the target the position of virtual source of electron beams for each applicator in different energy were obtained. The obtained results from this method showed a dependence on energy and field size for S vir. Conclusions: The position of S vir is a function of dimension of treatment field and energy. In larger treatment fields and higher energies this distance is longer. Sci Med J 2011; 10(3): 281-287