ساخت وبررسي صيقل دهنده مناسب جهت پوليش شيشه با استفاده ازتركيبات سيليس و اكسيد سريم و كاربيد سيليسيم

Studying production of suitable glass polisher with compounds of silica, silicon carbide and cerium oxide

در اين پروژه پوليش پايه سريم براي صيقل كاري روي سطح شيشه‌هاي معدني مورد توجه قرار گرفت. از مواد اوليه اكسيد سريم، نانوسيليس، ميكروسيليس، متاسيليكات سديم استفاده گرديد كه به صورت پودر خشك جهت توليد نمونه مورد استفاده قرار گرفتند. دماي پخت 950 و 750 درجه سانتي گراد براي سه نمونه در نظر گرفته شد. بااستفاده ازآناليز پراش پرتو ايكس فازهايي چون Ce2Si2O7, SiC, Na6Si8O19 در تركيب مشخص شدكه حاصل واكنش CeO2 و SiO2بود ومورفولوژي آن ها توسط ميكروسكوپ الكتروني روبشي و نرم افزارآناليزتصويري مورد بررسي قرار گرفت. هم چنين مقاومت به سايش، استحكام، وزن مخصوص، درصد وزني و درصد حجمي جذب آب اندازه گيري شد و نتايج به دست آمده از هر نمونه مقايسه گرديد. به طور كلي نمونه شامل نانوسيليس، متاسيليكات سديم، اكسيد سريم و كاربيد سيليسيمم كه دردماي 950 درجه سانتي گراد پخت شده است، داراي خواص مطلوب تري بوده است.

Cerium based abrasives were studied for polishing glass surface. Raw materials used were Microsilica, Nanosilica, Silicon carbide, Cerium Oxide and Sodium Metasilicate. The procedure of powder processing was employed. Firing temperature 750?C and 950 ?C were applied. Samples were prepared and firing temperature and strength was compared. Microscopy investigation and Image Analyzer revealed microstructure and grian distribution. XRD studies showed phases such as Ce2Si2O7, SiC and Na6Si8O19 From some reaction of CeO2 and SiO2.Then, values of density, percent by weight, volume of water absorption and the weight difference in grinding testwere measured. Finally the best composition was selected as sodium Metasilicate, Nanosilica, Silicon carbide and Cerium oxide and firing temperature of 950?C, so that a suitable polishe for glass could be obtained.