بررسي پاك‌سازي شيميايي رسوب آلاينده از سطح‌هاي سيليسيم و كروم دستگاه‌هاي صنعتي با استفاده از عامل‌هاي كي‌ليت‌كننده

Investigation of chemical removal of lead contamination from silicon and chromium industrial surfaces by using a novel cleaning sloution

در اين پژوهش به منظور پاك‌سازي آلودگي‌هاي سرب از سطح‌هاي سيليسيمي و كرومي دستگاه‌هاي صنعتي، از محلول پاك‌كننده‌اي شامل هيدروژن پراكسيد (به عنوان عامل اكسيد‌كننده) و نمك دي سديم EDTA (اتيلن دي آمين تترا استيك اسيد) به عنوان عامل كي‌ليت‌كننده استفاده شد. طيف‌هاي UV محلول پاك‌كننده پس از پاك‌سازي آلودگي‌هاي سرب، نشان داد كه كمپلكس (Pb(EDTA در محلول تشكيل شده است، كه تشكيل اين كمپلكس مي‌تواند در جلوگيري از بازجذب سرب بر سطح‌هاي فلزهاي پايه دستگاه‌هاي صنعتي نقش مهمي را ايفا كند. با استفاده از بررسي تصويرهاي ميكروسكوپ الكتروني روبشي (SEM) مي‌توان دريافت كه محلول پيشنهاد شده در شرايط انتخاب شده براي حذف آلودگي‌هاي سرب، به سطح فلز پايه آسيب نمي‌زند و محلول مناسبي براي اين فرايند خواهد بود.

In this study, in order to remove the lead contamination from silicon and chromium industrial surfaces, a novel cleaning solution containing hydrogen peroxide (as oxidizing agent) and EDTA disodium salt (as chelating agent) was used. After the removal of lead contamination, the UV spectra of the cleaning solutions were examined. The results showed that the prepared Pb(EDTA) complex in the solution can play an important role in the prevention of lead re-absorption on the surface of the basic metals in industrial surfaces. Scanning electron microscopy (SEM) study illustrated that by using the suggested solution at optimized condition; the lead contamination can be removed properly with no damage to the surface of the basic metals.