شبيه‌سازي رشد لايه‌هاي نازك در حضور ذرات فعال و ناخالصي

Simulation of a thin film growth in the presence of active and impurity particles

در اين مقاله در چارچوب مدل انباشت بالستيك به شبيه‌سازي رشد لايه‌هاي نازك در حضور دو نوع ذره فعال (A) و ناخالصي(C) مي‌پردازيم و نماي مقياسي رشد و نماي مقياسي زبري را به‌دست مي‌آوريم و آن‌ها را با كلاس جهاني ارايه ‌شده توسط كاردار-پاريزي-ژانگ (KPZ) مقايسه مي‌كنيم. نتايج به‌دست‌آمده وجود يك احتمال بحراني را نشان مي‌دهند، به‌گونه‌اي كه به‌ازاي مقادير كوچكتر از ، مدل انباشت مورد نظر ما در كلاس جهاني KPZ قرار مي‌گيرد، درحالي‌كه به‌ازاي مقادير بزرگتر از مدل مطالعه شده در اين مقاله از كلاس جهاني KPZ تبعيت نمي‌كند.

In this paper, in the framework of ballistic deposition model we simulate a thin film growth in the presence of two kinds of particles: an impurity particle (C) and an active particle (A).We calculate the roughness exponent and growth exponent of our model and compare them with the results of Kardar-Parisi-Zhang (KPZ) universality class. We find a critical probability ( ) in a way that for values smaller than , our model belongs to KPZ universality class, while for values greater than it does not belong to KPZ universality class