بررسي اثر پخت بر ناهمواري سطوح لايه هاي نازك ITO تهيه شده با روش تبخير با باريكه الكتروني از طريق تكنيك شمارش- جعبه

Investigation of Annealing Effect on Roughening of ITO Thin Films Surfaces Perepared by Electron Beam Evaporation Method via Box-Conting Technique

در اين پژوهش، لايه هاي نازك اكسيد اينديوم آلاييده با قلع (ITO) به روش تبخير با باريكه الكتروني بر روي بستره هاي شيشه اي در دماي اتاق تهيه شدند. در ادامه، يكي از لايه ها به عنوان مرجع نگه داشته شد و بقيه لايه ها در دماهاي oC 200 و oC 300 به مدت يك ساعت پخت شدند. مطالعه ساختاري و مورفولوژيكي لايه هاي نازك تهيه شده به ترتيب با تكنيك هاي پراش سنج پرتو-x و ميكروسكوپ نيروي اتمي (AFM) انجام شد. روند تكامل ساختار سطح لايه ها در طول فرايندهاي انباشت و پخت با روش هاي رياضي بررسي گرديد. بعد فركتالي سطوح لايه هاي نازك ITO با استفاده از روش شمارش- جعبه به صورت تابعي از دماي پخت محاسبه شد. يافته ها نشان داد كه پخت لايه ها باعث تغيير در ناهمواري سطح لايه هاي نازك در طول فرايند پخت مي شود.

In this research, thin films of Indium tin oxide (ITO) were deposited on glass substrates at room temperature (RT) by electron beam evaporation. Then, one of films was keeping as film reference and the other films were annealed in air at 200 oC and 300 oC temperatures for an hour. The structural and morphological studies of the prepared thin films were investigated by X-ray diffraction (XRD) and atomic force microscopy (AFM) techniques, respectively. The evolution of surface structure of the films during the deposition and annealing process was investigated by mathematical methods. Fractal dimension of the ITO thin films surfaces as a function of annealing temperatures were determined using box counting method. The results indicated that the surface roughening of the ITO thin films occurs during annealing process.