بازدارندگي از خوردگي مس به وسيله فيلم هاي لايه نازك خود مجموعه‌ساز شيف باز در محيط‌هاي اسيدي

Inhibition of Copper Corrosion by Self-Assembled Thin Films of Schiff Bases in Acidic Media

فلز مس به دليل ويژگي هاي مطلوب مكانيكي و الكتريكي كاربردهاي صنعتي بسياري دارد. اگر چه فلز مس و آلياژهاي آن عموما به عنوان مواد مقاوم در برابر خوردگي شناخته شده اند، ولي با توجه به محيطي كه در آن بكار گرفته مي شوند، هنوز انواع گوناگوني از خوردگي را متحمل مي شوند كه عموما كاربرد عملي آن ها را محدود مي كند. روشي موثر كه مي تواند اين مشكل را حل كند، اصلاح سطح با استفاده از فيلم هاي لايه نازك خود مجموعه‌ساز است. تك لايه هاي خودمجموعه ساز سامانه هاي ساده و انعطاف پذيري هستندكه به عنوان يك لايه ايزوله عمل كرده و از نفوذ كلريد به سطح جلوگيري مي كند. در اين پژوهش، دو شيف باز N وN’- بيس (ساليسيدن)-1 و 3 - پروپان دي آمين (شيف باز1) و N وN’- بيس (4- متوكسي ساليسيدن)-1 و 3 - پروپان دي آمين(شيف باز2) به صورت لايه نازك خود مجموعه ساز به عنوان بازدارنده خوردگي مس در محلول اسيدكلريدريك 5/0 مولار سنتز و بازده بازدارندگي آن ها به وسيله آزمون هاي پلاريزاسيون پتانسيوديناميكي و طيف نگاري امپدانس الكتروشيميايي، بررسي شد. نتايج آزمون پلاريزاسيون نشان داد كه اين تك لايه هاي خود مجموعه ساز به عنوان باردارنده هاي مختلط عمل مي كند و هر دو فرآيند كاتدي و آندي را متوقف مي سازد. افزايش قطر منحني ها در اندازه گيري هاي امپدانس نشان مي دهد كه تك لايه ها به عنوان بازدارنده هاي خوبي عمل مي كنند. نتايج بدست آمده از روش پلاريزاسيون و امپدانس از مطابقت مطلوبي برخوردارند و نشان مي دهند كه با افزايش غلظت بازدارنده، بازدارندگي تا 95 درصد افزايش مي يابد. ورود گروه متوكسي در حلقه بنزن شيف باز نيز در كل باعث افزايش بازده بازدارندگي شيف باز شد كه مي تواند ناشي از اثرات دهندگي الكترون و اثرات آب گريزي اين گروه باشد.

One of the most important methods for protection of the metals against corrosion especially in acid media is the use of inhibitors. Acid solutions are generally used in several industrial processes, such as HCl. Copper has a wide range of industrial applications due to its good mechanical and electrical properties. Although copper and its alloys are generally known to be good corrosion resistant materials, they still suffer different forms of corrosion depending on the service environment, which limits greatly their application in practice. One effective approach that can be taken to solve this problem is surface modification using Self Assembled Mono layers (SAM). SAMs provide a flexible and simple system that act as an insulating film and prevent chloride penetration to surface.In this report, two new synthesis Schiff base, N,Nʹ- bis(salicylidene)-1,3 propanediamine and N,Nʹ- bis(4-methoxysalicylidene)-1,3 propanediamine, has been proposed as new corrosion inhibitors. These two inhibitors where self-assembled on copper and their corrosion inhibition performance in 0.5 M HCl solution was investigated by using polarization curves and electrochemical impedance spectroscopy (EIS) methods.The polarization measurements suggest that the SAMs act as mix inhibitors and suppressed both the anodic and cathodic reaction. Increasing curves diameter in the impedance measurements showed that the SAMs act as good inhibitors.The results from polarization and impedance measurements are in good agreement and show inhibition efficiency gradually increase by increasing concentration. Login methoxy groups in the benzene ring of the Schiff inhibition efficiency increases that could result from the electron donors effects and the effects of the hydrophobic group.