ايجاد ميكروساختارهاي مختلف روي فيلم پلي‌اترسولفون در اثر تابش ليزر XeCl

Formation of different microstructures on a polyethersulfone film following XeCl laser irradiation

پارامترهای تابش ليزر به‌ويژه شاريدگی و تعداد پالس در ايجاد ميكروساختارهای مختلف روی سطوح پليمری در اثر تابش و در نتيجه بهبود خواص سطح در استفاده از آن در پزشكی، الكترونيك و ديگر صنايع اهميت قابل ملاحظه‌ای دارد. اطلاع از محدوده‌های مختلف شارش و تعداد پالس در ايجاد ساختارهای مختلف از موارد مهم در تعيين اثرات مطلوب و يا ناخواسته تابش روی سطح به‌منظور استفاده از آن در كاربردهای مختلف است. در اين مقاله فيلم پلی‌اترسولفون با ليزر XeCl در شارش‌های مختلف و بالای آستانه كندگی مورد تابش و ساختارهای مختلف ايجاد شده در اثر برهم‌كنش در شارش و تعداد پالس متفاوت مورد بررسی قرار گرفت

Laser irradiation parameters, especially the laser fluence and the number of pulses are very important factors affecting microstructures formation and improvement of the surface characteristics in different medical, electronic and the other industrial applications. Information about the fluence domain and the number of pulses for the formation of the structures is very important and determines the desirable or unwanted effects of the laser irradiation on the surfaces regarding the desired applications. In this paper Polyethersulfone films were irradiated with a XeCl laser at fluences above the ablation threshold. The effects of the laser fluence and the number of pulses on the formation of different microstructures on the surface were investigated