جفتگر كم اتلاف براي دو موجبر پلاسمونيك تركيبي و سيليكوني

Low loss coupler to interface silicon waveguide and hybrid plasmonic waveguide

  در اين مقاله يك جفتگر فلزی كم اتلاف و پر بازده به منظور هدايت موج از يك موجبر سيليكونی به يك موجبر پلاسمونيك معرفی و مشخصه‌يابی شده است. عملكرد جفتگر در ابعاد مختلف بررسی و بهينه‌سازی شده است. محاسبات نشان می‌دهد كه در جفتگر پيشنهادی، محدودسازی نور از موجبر سيليكوني  .   به موجبر پلاسمونيك تا ابعاد2   nm 200×200 با بازده 70 % ( db 8/ 0 )در طول موج µm 55/1 رخ مي­دهد .     

A metallic coupler is proposed to interface a silicon on insulator (SOI) waveguide with a narrow hybrid plasmonic waveguide (200× 200 nm). The device operation is investigated and optimized to attain the best tradeoff between the mode confinement and the propagation loss. Calculations reveal that a high confinement and low loss of the energy is achieved from a silicon slab waveguide into the dielectric slot of area 200×200 nm2 and a coupling efficiency of 70% (0.8 dB) at the 1.55 μm telecommunication wavelength can be achieved