اندازه‌گيري غلظت‌هاي پايين تيواوره در الكتروليت‌ اسيدي حاوي يون مس بر روي سطح الكترود نانوساختار پلاتين به روش طيف‌سنجي امپدانس الكتروشيميايي

Impedimetric determination of low concentration of thiourea in Cu2+ containing acidic media on nanostructured platinum electrode

امروزه اندازه‌گيري غلظتهاي پايين تيواوره در حضور مقادير بالاي يونهاي فلزات يكي از چالش هاي بسيار مهم پيش روي صنايع مختلف به خصوص صنايع الكتروشيميايي است. در اين مقاله تكنيكهاي ولتامتري چرخه اي(CV)  و طيف سنجي امپدانس الكتروشيميايي (EIS) براي مطالعه و اندازه‌گيري تيواوره در محلول اسيدي حاوي مقادير بالاي يونهاي مس استفاده شده‌اند. از قابليت جذب سطحي تيواوره و كمپلكسهاي آن بر سطح الكترود نانو ذرات پلاتين و اشغال كردن سايتهاي فعال و به دنبال آن جلوگيري از اكسايش و كاهش يونهاي مس در محلول، براي اندازه‌گيري تيواوره استفاده گرديد. در اين مقاله با انتخاب پتانسيل مناسب استخراج شده از داده­هاي تكنيك ولتامتري چرخه اي و اعمال آن در طيف سنجي امپدانس، تيواوره در مقادير بسيار كم و در بازه غلظتي ppm 20 0 در حضور مقدار زياد يون مس اندازه‌گيري شد.

Nowadays, detection of low concentration of thiourea (TU) in the presence of high amounts of metallic ions is one of the important challenges in different industries, especially electrochemical industries. In this study, the cyclic voltammetry (CV) and electrochemical impedance spectroscopy (EIS) techniques were performed for study and detection of TU in acidic media containing high concentration of copper(II) ions. In fact, TU measurement was carried out by taking advantage of high affinity of TU and its complexes for adsorption at the Pt nanostructured electrode and changing the charge transfer resistance of Cu2+ as the dominant redox species at the electrode surface. In this work, TU was detected in the range of 0.020 ppm in the presence of high amounts of copper ions by applying the appropriate potential in EIS technique, which was obtained from CV studies.