بررسي خواص حسگري گرافن اكسيد احيا شده با عوامل مختلف براي آشكارسازي دي متيل متيل فسفونات

در اين تحقيق، يك حسگر گازي مقاومت شيميايي مبتني بر گرافن اكسيد احيا شده براي آشكارسازي گزينش­پذير دي­متيل­متيل فسفونات (DMMP) به عنوان شبه­عامل اعصاب توسعه داده شده است. احياي گرافن اكسيد توسط عوامل احيا كننده هاي مختلفي مانند آسكوربيك اسيد، گلوكز، هيدرازين هيدرات و پارافنيلن دي­آمين انجام گرفت. گرافن اكسيدهاي احيا شده كه به خوبي در آب مقطر پراكنده شده بودند؛ با روش قطره چكاني روي سطح الكترودهاي شانه­اي قرار داده شدند. همچنين، از تركيب تترافلوئورو هيدروكينون (TFQ) به عنوان لايه ثانوي پوشش­دهنده براي بهبود گزينش­پذيري و حساسيت استفاده گرديد. براي سنجش تغييرات مقاومت از دستگاه LCR-Meter استفاده شد. گستره پاسخ خطي آمده براي DMMP با اين حسگر mg/L 5/4-2 با حد تشخيص mg/L 3/0 به دست آمد. انحراف استاندار نسبي براي 4 بار تكرارپذيري پاسخ حسگر مقدار 1 درصد محاسبه شد.