بررسي بهبود بخشي پلاسمايي پلاسماي تركيبي نيتروژن و اكسيژن بر خواص فوتوكاتاليستي لايه هاي نازك دي اكسيد تيتانيوم

Investigation of plasma treatment effect of N2+O2 mixture plasma on the photocatalytic properties of titanium dioxide thin films

لايه هاي نازك دي اكسيد تيتانيوم با ضخامت 280 نانومتر با استفاده از روش كنــــدو پاش مغناطيسيDC روي زير لايه شيشه تهيه شده اند.براي لايه نشاني از هدف فلز تيتانيوم به صورت ورق و گاز تركيبي آرگون و اكسيژن و زيرلايه اي با دماي 250 درجه سانتي گراد استفاده شده است. دستگاه پراش اشعه X (XRD) فاز آناتاز را براي نمونه ها نشان داده است و توپوگرافي سطح با استفاده از ميكروسكوپ نيروي اتمي (AFM) مورد بررسي قرار گرفته است. سپس سيستم به حالت پلاسماي RF تغيير داده شده و اثر بهبود بخشي پلاسمايي پلاسماي تركيبيN2+O2 بر كاهش غلظت رنگ متيلن بلو در حضور لايه هاي نازك TiO2 مورد ارزيابي قرار گرفته است. ميزان درصد حذف رنگ (R%) و ثابت سرعت واكنش تخريب (k) محاسبه شده است.

Titanium dioxide thin films with a thickness of 280 nm were deposited using pulsed DC magnetron reactive sputtering،on glass substrates. In order to deposit a Ti source in an Ar+O2 gas mixture was used with a substrate of temperature 2500c.The X-ray diffraction (XRD) showed anatase phases and Topographical surface using atomic force microscopy (AFM) is studied. Then RF plasma system was changed and treatment effect of N2 + O2 mixture plasma on the reduction concentration of methylene blue dye in the presence of TiO2 thin films evaluated. Finally، the color removal rate (R%) and also degradation reaction rate constant (k) is calculated.characterized.