Study of the interface Si-nc/SiO2 by infrared spectroscopic ellipsometry and X-ray photoelectron spectroscopy
Author/Authors :
I. Stenger، نويسنده , , B. Gallas، نويسنده , , L. Siozade، نويسنده , , S. Fisson، نويسنده , , G. Vuye، نويسنده , , S. Chenot، نويسنده , , J. Rivory، نويسنده ,
Issue Information :
ماهنامه با شماره پیاپی سال 2007
Pages :
5
From page :
176
To page :
180
Abstract :
SiOx films (1
Keywords :
Interface , Si nanoparticle , XPS , IR ellipsometry
Journal title :
Physica E Low-dimensional Systems and Nanostructures
Serial Year :
2007
Journal title :
Physica E Low-dimensional Systems and Nanostructures