شماره ركورد كنفرانس :
3632
عنوان مقاله :
Investigating a Novel Normally-On AlGaN/GaN Capped PHEMT and the Effects of Cap Layers Thickness on its Gate Leakage Current
پديدآورندگان :
Alireza Salehi , Hedie Mahmoodnia ,
كليدواژه :
AlGaN , GaN capped PHEMT , In0.15Ga0.85N layer , spacer layer , Ion , Ioff ratio.
كشور :
ايران
نويسنده :
Tara Ghafouri
كلمات كليدي :
AlGaN/GaN capped PHEMT, In0.15Ga0.85N layer, spacer layer, Ion/Ioff ratio.
لينک به اين مدرک :
بازگشت