اعمال پوشش كامپوزيتي كلسيم فسفات/گرافن اكسيد به روش رسوب دهي الكتروشيميايي پالسي

در اين مطالعه، پوشش زيست فعال كلسيم فسفاتي/گرافن اكسيد به روش رسوب دهي الكتروشيميايي پالسي روي سطح تيتانيم اعمال شد و به منظور افزايش چسبندگي پوشش، تركيبي از آندايزينگ و عمليات قليايي-حرارتي تيتانيم قبل از اعمال پوشش انجام گرفت. نتايج نشان داد كه لايه كامپوزيتي اعمالي در چگالي جريان هاي 2 و mA/cm2 5 توانايي پوشش دهي يكنواخت كل سطح تيتانيم را نداشت و برخي نواحي روي سطح بدون پوشش باقي ماندند. با افزايش چگالي جريان به 10 و mA/cm2 15، لايه كامپوزيتي با قدرت پوشانندگي بالا بر روي سطح تشكيل شد. اما در چگالي جريان هاي بالا به دليل احياي بيشتر آب در الكتروليت پايه آبي و در نتيجه تصاعد حجم قابل توجهي از گاز هيدروژن در روي سطح كاتد، پوشش حاصله كيفيت مطلوبي نداشت كه اين مشكل با به كارگيري جريان پالسي وتغيير سيكل كاري از 3/0 به 1/0 برطرف شد. همچنين در حضور گرافن اكسيد شانس تشكيل فاز پايدار هيدروكسي آپاتيت (HA) در مقايسه با ساير فازهاي كلسيم فسفاتي افزايش يافت و پوششي متراكم تر حاصل شد.