شماره ركورد كنفرانس :
4625
عنوان مقاله :
بررسي اثر موقعيت زيرلايه در هنگام لايه نشاني به روش كندوپاش و بازپخت دمايي بر ساختار بلوري لايه نازك ZnO:Al
عنوان به زبان ديگر :
The effect of substrate’s position during RF-sputtering and thermal annealing on crystalline structures of ZnO:Al thin film
پديدآورندگان :
رجبي زهرا zxrajabi@gmail.com 1پژوهشكده علوم و فناوري نانو، دانشگاه كاشان؛ , مرادي مهرداد m.moradi@kashanu.ac.ir 1پژوهشكده علوم و فناوري نانو، دانشگاه كاشان؛ , زاهدي فر مصطفي zhdf@kashanu.ac.ir 1پژوهشكده علوم و فناوري نانو، دانشگاه كاشان؛
عنوان كنفرانس :
پنجمين كنفرانس ملي رشد بلور ايران
چكيده فارسي :
در اين مقاله لايهنشاني اكسيد رساناي شفاف ZnO:Al به روش كندوپاش مورد بررسي قرار گرفته است. اثر موقعيت بستر نسبت به تارگت و بازپخت دمايي بر روي بلورينگي، مقاومت سطحي و شفافيت لايه مورد مطالعه قرار گرفته است. بلورينگي بهتر باعث شفافيت بيشتر مي شود و نتايج نشان ميدهد كه عليرغم اينكه مقدار مقاومت سطحي بر حسب موقعيت با توجه به تغيير مقدار ضخامت لايه متفاوت است ولي با عمليات بازپخت بهينه ميتوان به يكنواختي مقاومت در كل سطح لايه و كاهش مقدار آن دست يافت. نتايج نشان داد كه كمينه مقاومت□/Ω 09/30 در شرايط بهينه بازپخت يعني دماي ۵۵۰ درجه و زمان ۳۰ دقيقه بدست ميآيد. همچنين فرآيند بازپخت منجر بلوري شدن بهتر نمونه و در نتيجه شفافيت بيشتر در ناحيه نور مريي شده است.
