رسوب نشاني الكتروفورتيك نانوذرات هيدراكسي آپاتيت در الكل هاي مختلف

/

سوسپانسيون نانوذرات هيدراكسي آپاتيت (g/L20) در الكل هاي مختلف (متانول، اتانول، ايزوپروپانول و بوتانول) تهيه شدند و تريس (تريس (هيدراكسي متيل) آمينومتان) به عنوان پخش كننده استفاده شد. مشخص شد كه يون هاي H+Tris كه از پروتونه شدن تريس در سوسپانسيون هاي الكلي ايجاد مي شود بطور شيميايي روي نانوذرات HA از طريق برقراري پيوند هيدروژني با گروه هاي P-OH سطحي آنها جذب مي شوند و باعث افزايش پتانسيل زتا و در نتيجه پايداري كلوئيدي آنها مي شوند. مشاهده شد كه با افزايش وزن مولكولي الكل غلظت يون هاي H+Tris ايجاد شده كاهش مي يابد بطوريكه در غلظت هاي بيشتري از تريس سطح ذرات HA از يون هاي H+Tris اشباع مي گردد؛ در نتيجه غلظت بهينه تريس در سوسپانسيون با افزايش وزن مولكولي الكل افزايش مي يابد. رسوب نشاني الكتروفورتيك (EPD) در V60 و زمان هاي مختلف انجام شد. سينتيك EPD از سوسپانسيون هاي حاوي غلظت بهينه تريس بيشترين بود كه ناشي از ماكزيمم بودن پتانسيل زتاي ذرات و در نتيجه تحرك آنها در اين سوسپانسيون ها بود. پوشش هاي رسوب داده شده از سوسپانسيون هاي حاوي غلظت بهينه تريس داراي ريزساختار يكنواخت با ميزان اگلومراسيون پايين بودند؛ در نتيجه اين پوشش ها مي توانند به عنوان مانعي موثر در برابر سيال خورنده عمل كرده و از رسيدن آن به سطح زيرلايه جلوگيري كرده و باعث افزايش مقاومت به خوردگي آن شوند.