شماره ركورد كنفرانس :
4815
عنوان مقاله :
p133. لايه نشاني نيتريد كروم بر روي زيرلايه سيليكون به وسيله دستگاه پلاسما فوكوس كم انرژي
عنوان به زبان ديگر :
Deposition of chromium nitride on silicon substrates using a low energy plasma focus device
پديدآورندگان :
نصيري سميرا sa_nasiri@sut.ac.ir دانشگاه صنعتي سهند تبريز؛ , قره شعباني اسلام shabani@sut.ac.ir دانشگاه صنعتي سهند تبريز؛
كليدواژه :
لايه‌نشاني , دستگاه پلاسما فوكوس , نيتريد كروم , لايه نازك. Deposition , Plasma Focus Device (PFD) , Chromium Nitride (CrN) , Thin Film. , 52
عنوان كنفرانس :
سي و پنجمين كنفرانس ملي فيزيك ايران و بيست و سومين همايش دانشجويي فيزيك
چكيده فارسي :
در اين مطالعه، از دستگاه پلاسما فوكوس براي لايه نشاني نيتريد كروم در دماي اتاق بر روي زير لايه سيليكون (100) استفاده شده است. آند دستگاه پلاسما فوكوس از جنس كروم مي باشد .مخلوط گاز آرگون و نيتروژن به عنوان گاز كاري براي لايه نشاني استفاده شد. لايه هاي نازك نيتريد كروم با تعداد شات هاي متفاوت تحت زاويه صفر درجه نسبت به محور آند و در فاصله 85 ميليمتري از بالاي آند لايه نشاني شدند .نتايج پراش اشعه ايكس رشد نيتريد كروم روي سيليكون را نشان داد. نتايج ميكروسكوپ الكتروني روبشي نشان مي دهد افزايش تعداد شات ها باعث نهشت مواد بيشتر روي زيرلايه مي شود.
