اندازه گيري پراكندگي لايه هاي نازك TiO2 و ZrO2

Light scattering measurement of TiO2 and ZrO2 thin films

در اين مقاله لايه هاي نازك TiO2 و ZrO2 روی زیر لایه BKV با روش تبخیر با باریكه الكترونی ساخته شده اند . پس از آماده سازی لایه ها طیف عبوری UV-visible از لایه ها تهیه شده است. با استفاده از طیف عبوری ، ضریب شكست لایه ها به دست آمده است. همچنین تصاویر AFM از نمونه ها تهیه گردیده است. اندازه گیری پراكندگی این لایه های نازك با روش پراكندگی تجمعی كلی ( total integrated scattering) یا TIS انجام شده است، مشاهده می شود كه لایه نازك ZrO2 پراكندگی كمتری نسبت به لایه نازك TiO2 دارد. اندازه گیری پراكندگی با روش AFM نتایج حاصل از روش TIS را تایید می كند.

In this paper TiO2 and ZrO2 thin films were prepared on BK7 glass by physical vapor deposition (PVD). Byusing the transmission spectra, the refractive index dispersion have been calculated. Total integrated scatteringmethod is used for measuring of thin films scattering. Measured scattering of two samples shows lower scattering for ZrO2, which is in agreement with measured scattering by AFM method