بررسي فني و اقتصادي فناوري هاي نوين توليد ويفرهاي سيليسيمي با ضخامت پايين جهت استفاده در پنل هاي خورشيدي

ويفرهاي سيليسيمي پلي‌كريستال امروزه از طريق احيا كربوترميك اكسيد سيليسيم در كوره قوس الكتريكي توليد مي‌شود. در تلاش براي كاهش هزينه‌هاي توليد ويفر سيليسيمي، شركت‌هاي پيشرو در اين عرصه با ارائه فناوري‌هاي نوظهور هزينه توليد ويفرهاي سيليسيم را به يك سوم هزينه‌هاي مرسوم كاهش داده‌اند. اين مقاله به ارائه روش‌هايي اختصاص دارد كه ويفر سيليسيم بدون برش با اره و با حداقل مواد ضايعات را توليد مي‌كند. اين روش بسيار كم‌هزينه تر از روش مرسوم با ضايعات بالا در توليد شمش سيليسيم و برش با اره در صنعت فوتوولتائيك است. توليد اين ويفرها با اندازه استاندارد به كار رفته در سلول خورشيدي با سرعت بالاتر و هزينه كمتر پيشرفت‌هاي زيادي در زنجيره ارزش پنل هاي خورشيدي سيليسيمي ايجاد كرده است. در روش‌هاي مرسوم توليد ويفر كه به وسيله برش شمش انجام مي‌شود، مواد زيادي در اثر برخورد با تيغه‌هاي برنده به عنوان ضايعات توليد مي‌شود. مشخصات ويفرهاي توليد شده با فناوري‌هاي نوين از لحاظ ضخامت، تغييرات كل ضخامت (TTV)، زبري و خواص مكانيكي بالاتر و بهتر از ويفرهاي توليد شده با فناوري‌هاي مرسوم است. اين ويژگي‌هاي منحصر به فرد از عوامل فعال‌كننده اين فناوري در آينده خواهد بود.